采用特殊滚筒概念的磁控溅射系统，适用于小型基材
FHR.BOXX-产品系列
- 单室系统
- 带有锁室的系统
- 有无次级旋转
- 可连接无尘室
用于为研发和生产所需的板材、磁盘、晶片、针脚和针头进行喷涂的薄膜镀膜系统
- 微电子
- 电子产品
- 印刷电路板
- 传感器
- 显示器
- OLED
- 太阳能薄膜电池
- 薄膜电池
- 以及许多其他应用
单室溅射系统是用于小批量生产真空镀膜的经济高效的解决方案。我们的 FHR.Boxx 产品系列中的溅射系统（也称为 "盒式镀膜机"）不需要气闸室。基材可以在工艺室开启的情况下直接装载。
接收器中的基材载体是一个旋转的滚筒，可以用来加热大多数小型基板。通过在真空过程中旋转滚筒，待镀膜的基材可以经过多个工艺站。
通过安装次级旋转装置，系统甚至可以对眼镜片或灯具等三维基材进行镀膜。总的来说，可以实现良好的层厚均匀性。还可以对基底进行预处理，例如等离子蚀刻。
通过FHR.Boxx产品系列中的系统，我们的客户获得了集多种功能和优点于一身的高质量镀膜机。
- 多个镀膜和预清洗工站
- 可生产分层系统
- 可加装负载锁
- 基材次级旋转
- 基材加热
- 由于采用垂直设计，颗粒和 "抖动 "最小化
- 部件供应充足，易于维护
- 具有吸引力的投资和运营成本
- 使用FHR自己的溅射技术
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您想进一步了解我们的 FHR.Boxx 产品系列吗？我们的专家 Peter Stiewe 将竭诚为您服务。请与我们联系。
