用于干涉光学应用的精密溅射镀膜系统
FHR.STAR-EOSS®-产品系列
- 用于为滤镜、镜片、镜子等镀膜。
- 用于为薄玻璃和厚玻璃镀膜
- 带料仓气闸
- 采用向上溅射工艺以最小化颗粒。
用于开发和生产精密光学仪器的薄膜镀膜系统
- 我们的EOSS®概念带通滤光片
- 抗反射涂层
- 高反射涂层
- 分光镜
- 陷波滤光片
- 以及许多其他应用
我们的FHR.Star-EOSS®产品家族的系统基于客户对精密溅射系统的需求，该系统用于沉积光学多层膜，这些多层膜在层质量和层厚度均匀性方面对主要是平坦且均匀的基底提出了最高要求。
我们的精密溅射系统适用于沉积干涉光学层系统，用于生产介电镜和光学滤波器——如带通滤光片或多陷波滤光片。
该系统概念是与Fraunhofer表面工程与薄膜研究所联合开发的，该系统被设计为增强型光学溅射系统（EOSS®）。在进一步的开发过程中，镀膜质量、工艺稳定性、生产率、维护简便性和在较大基底上镀膜的能力受到了特别强调。镀膜层生长通过光学宽带监测进行原位监控。
通过EOSS®系统，您将拥有市场上最先进的应用产品。
该系统相对于竞争对手具有以下优势:
- 由于向上溅射工艺，极低的颗粒数
- 通过双源双极控制实现最佳层生长
- 通过使用管状阴极实现最高材料利用率和最长靶材使用寿命
- 通过时间控制的沉积和光学宽带监测，可以实现精确的层厚度。
- 可选配自动系统跟踪以纠正设计偏移。
- 毫不妥协的面向生产过程的设计
- 可使用多达四个镀膜舱室。
- 可使用一个或两个等离子源。
- 可用于通用适配基底架的大型基材载具
- 可运行多个工艺
- 维护方便快捷
- 全面且易于使用的软件界面
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