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Beschichtungen der FHR im Detail

Antireflektive Schichten

Antire­flektive, dielek­trische Schichten mit verschie­denen Eigen­schaften

Antireflektive Beschichtungen sind in den Materialwissenschaften von zentraler Bedeutung und finden in zahlreichen Anwendungen ihren Einsatz. Sie werden hauptsächlich dazu verwendet, störende Reflexionen auf optischen Oberflächen, wie Brillengläsern oder Kameraobjektiven, zu minimieren. Auch in der Solarindustrie tragen sie dazu bei, die Lichtabsorption in Photovoltaikzellen zu optimieren.

Ihre Fähigkeit, das Licht effektiv zu übertragen und gleichzeitig unerwünschte Reflexionen zu reduzieren, macht sie zu einem essenziellen Bestandteil in vielen optisch ausgerichteten Technologien.

Erfahren Sie mehr über die Möglichkeiten von antireflektiven Beschichtungen.

Entspiegeln von Oberflächen

Antire­flektive, dielek­trische Schichten

Um Glasoberflächen weniger spiegelnd zu gestalten, können Sie eine spezielle Schicht darauf auftragen, die als λ/4-Schicht bezeichnet wird. Ein gängiges Material dafür ist Magnesiumfluorid (MgF2). Die Dicke dieser Schicht sollte so gewählt werden, dass sie der Formel d = λ/(4 x n) entspricht, wobei n die Brechzahl des Materials ist. Damit heben sich die reflektierten Lichtwellen gegenseitig auf und das Glas reflektiert weniger Licht.

Eine andere Methode verwendet drei Schichten mit verschiedenen Brechzahlen. Hierbei wird ein sanfter Übergang von der Brechzahl der Luft zur Brechzahl des Glases erreicht, was den Reflexionseffekt verringert.

Für beste Ergebnisse, bei denen Reflexionen fast komplett vermieden und die Lichtdurchlässigkeit maximiert wird, sind komplexere Mehrfachschicht-Systeme notwendig. Diese bestehen aus abwechselnden Schichten von Materialien mit unterschiedlichen Brechzahlen. Die präzise Dicke dieser Schichten und die vielen Übergänge zwischen ihnen beeinflussen, wie das Licht durch sie hindurchgeht und wie es reflektiert wird.

Niedrig brechende Dielektrika:

  1. Magnesiumfluorit (MgF2) mit n = 1,38
  2. Siliziumoxid (SiO2) mit n = 1,46
  3. Aluminiumoxid (Al2O3) mit n = 1,67

Hoch brechende Dielektrika:

  1. Titanoxid (TiO2) mit n = 2,55
  2. Tantaloxid (Ta2O5) mit n = 2,20
  3. Zirkoniumoxid (ZrO2) mit n = 2,15
  4. Siliziumnitrid (Si3N4) mit n = 2,05

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Weitere Technologien und Beschichtungsverfahren

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